MISSTIC - SVI

Réacteur PVD  de dépôt par pulvérisation cathodique magnétron comportant 3 cibles 2’’, un porte-échantillon 2’’ (pouvant être chauffé), directement connecté à un chambre d’analyse XPS.

Caractéristiques techniques principales

Dépôt de couches métallique, oxyde et de nitrure.